Passend für Hitachi KM11 Öldrucksensor EX200-2-3-5
Produkteinführung
Vier Drucktechnologien des Drucksensors
1. Kapazitiv
Kapazitive Drucksensoren werden in der Regel von vielen professionellen OEM-Anwendungen bevorzugt. Durch die Erkennung von Kapazitätsänderungen zwischen zwei Oberflächen können diese Sensoren extrem niedrige Druck- und Vakuumniveaus erfassen. In unserer typischen Sensorkonfiguration besteht ein kompaktes Gehäuse aus zwei eng beieinander liegenden, parallelen und elektrisch isolierten Metalloberflächen, von denen eine im Wesentlichen eine Membran ist, die sich unter Druck leicht biegen kann. Diese fest fixierten Oberflächen (oder Platten) sind so montiert, dass sich durch die Biegung der Baugruppe der Spalt zwischen ihnen verändert (wodurch tatsächlich ein variabler Kondensator entsteht). Die resultierende Änderung wird von einer empfindlichen linearen Komparatorschaltung (oder ASIC) erfasst, die ein proportionales Hochpegelsignal verstärkt und ausgibt.
2.CVD-Typ
Durch die chemische Gasphasenabscheidung (oder „CVD“) wird die Polysiliziumschicht auf molekularer Ebene mit der Edelstahlmembran verbunden, wodurch ein Sensor mit hervorragender Langzeitdriftleistung entsteht. Zur Herstellung von Polysilizium-DMS-Brücken mit hervorragender Leistung zu einem sehr günstigen Preis werden gängige Batch-Prozess-Halbleiterfertigungsmethoden eingesetzt. Die CVD-Struktur bietet ein hervorragendes Preis-Leistungs-Verhältnis und ist der beliebteste Sensor in OEM-Anwendungen.
3. Sputterfilmtyp
Durch die Sputter-Filmabscheidung (oder „Film“) kann ein Sensor mit maximaler kombinierter Linearität, Hysterese und Wiederholbarkeit erzeugt werden. Die Genauigkeit kann bis zu 0,08 % des Skalenendwerts betragen, während die Langzeitdrift jedes Jahr nur 0,06 % des Skalenendwerts beträgt. Außergewöhnliche Leistung wichtiger Instrumente – unser gesputterter Dünnschichtsensor ist ein Schatz in der Druckmessbranche.
4. MMS-Typ
Diese Sensoren verwenden mikrobearbeitete Siliziummembranen (MMS), um Druckänderungen zu erkennen. Die Siliziummembran ist durch den ölgefüllten Edelstahl 316 vom Medium isoliert und reagiert in Reihe mit dem Prozessflüssigkeitsdruck. Der MMS-Sensor verwendet eine gängige Halbleiterfertigungstechnologie, die eine hohe Spannungsfestigkeit, gute Linearität, hervorragende Thermoschockleistung und Stabilität in einem kompakten Sensorgehäuse ermöglicht.